Zolltarifnummer 848690 - Suchergebnisse (9)

Teile und Zubehör für Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art sowie der in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannten Maschinen, Apparate und Geräte, a.n.g.

Werkzeughalter und selbstöffnende Gewindeschneidköpfe sowie Werkstückhalter von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art

Teile von Schleudern zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" mit fotografischen Emulsionen, a.n.g.

Teile für Maschinen für die Reinigung der Anschlussstifte von Halbleitergehäusen vor dem Galvanisieren "deflash machines", a.n.g.

Teile von Apparaten zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" durch Kathodenzerstäubung "sputtering", a.n.g.

Teile und Zubehör von Apparaten für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD", a.n.g.

Teile und Zubehör für Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" durch chemische Gasphasenabscheidung "CVD-Verfahren", a.n.g.

Teile und Zubehör für Ultraschallwerkzeugmaschinen, a.n.g.

Teile und Zubehör für Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art sowie der in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannten Maschinen, Apparate und Geräte, a.n.g. (ausg. Werkzeughalter, selbstöffnende Gewindeschneidköpfe, Werkstückhalter sowie von Schleudern zum Beschichten von Trägermaterialien mit fotografischen Emulsionen, zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien durch Kathodenzerstäubung "sputtering", für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien, zum Beschichten von Trägermaterialien durch chemische Gasphasenabscheidung "CVD-Verfahren" für Flüssigkristallanzeigen "LCD", für die Reinigung der Anschlussstifte von Halbleitergehäusen vor dem Galvanisieren "deflash machines" und für Ultraschallwerkzeugmaschinen)