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Zolltarifnummer Position 8486 - Suchergebnisse (20)
Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art; in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannte Maschinen, Apparate und Geräte; Teile und Zubehör, a.n.g.
Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art; in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannte Maschinen, Apparate und Geräte; Teile und Zubehör, a.n.g.
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules" oder Halbleiterscheiben "wafers"
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbauelementen oder elektronischen integrierten Schaltungen
Ultraschallwerkzeugmaschinen zum Herstellen von Halbleiterbauelementen oder elektronischen integrierten Schaltungen
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbauelementen oder elektronischen integrierten Schaltungen (ausg. Ultraschallwerkzeugmaschinen)
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Flachbildschirmen
Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" "CVD-Verfahren", zum Herstellen von Flachbildschirmen
Apparate für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD", zum Herstellen von Flachbildschirmen
Apparate zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" durch Kathodenzerstäubung "sputtering", zum Herstellen von Flachbildschirmen
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Flachbildschirmen (ausg. Apparate zum Beschichten von oder für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "CVD-Verfahren" sowie zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen durch Kathodenzerstäubung "sputtering")
Maschinen, Apparate und Geräte in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannt
Teile und Zubehör für Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art sowie der in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannten Maschinen, Apparate und Geräte, a.n.g.
Werkzeughalter und selbstöffnende Gewindeschneidköpfe sowie Werkstückhalter von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art
Teile von Schleudern zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" mit fotografischen Emulsionen, a.n.g.
Teile für Maschinen für die Reinigung der Anschlussstifte von Halbleitergehäusen vor dem Galvanisieren "deflash machines", a.n.g.
Teile von Apparaten zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" durch Kathodenzerstäubung "sputtering", a.n.g.
Teile und Zubehör von Apparaten für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD", a.n.g.
Teile und Zubehör für Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen "LCD" durch chemische Gasphasenabscheidung "CVD-Verfahren", a.n.g.
Teile und Zubehör für Ultraschallwerkzeugmaschinen, a.n.g.
Teile und Zubehör für Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren "boules", Halbleiterscheiben "wafers" oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art sowie der in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannten Maschinen, Apparate und Geräte, a.n.g. (ausg. Werkzeughalter, selbstöffnende Gewindeschneidköpfe, Werkstückhalter sowie von Schleudern zum Beschichten von Trägermaterialien mit fotografischen Emulsionen, zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien durch Kathodenzerstäubung "sputtering", für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien, zum Beschichten von Trägermaterialien durch chemische Gasphasenabscheidung "CVD-Verfahren" für Flüssigkristallanzeigen "LCD", für die Reinigung der Anschlussstifte von Halbleitergehäusen vor dem Galvanisieren "deflash machines" und für Ultraschallwerkzeugmaschinen)