Deutsch   Englisch   Französisch   anderen Sprachen  
Jahr
Suchen: TARIC oder Warenbeschreibung
Forum
Forum
News
News


Das Jahr in dem Sie gesucht haben entspricht nicht dem aktuellen Jahr. Möglicherweise haben sich die Nummern und Inhalte verändert!

16 Treffer in 1 Zollgruppen


84.86Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren `boules`, Halbleiterscheiben `wafers` oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art, in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannte Maschinen, Apparate und Geräte, Teile und Zubehör, a.n.g.
8486
1000
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren `boules` oder Halbleiterscheiben `wafers` (Handelsbeschränkungen)
8486
2010
Ultraschallwerkzeugmaschinen zum Herstellen von Halbleiterbauelementen oder elektronischen integrierten Schaltungen (Handelsbeschränkungen)
8486
2090
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbauelementen oder elektronischen integrierten Schaltungen (ausg. Ultraschallwerkzeugmaschinen) (Handelsbeschränkungen)
8486
3010
Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD` `CVD-Verfahren`, zum Herstellen von Flachbildschirmen (Handelsbeschränkungen)
8486
3030
Apparate für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD`, zum Herstellen von Flachbildschirmen (Handelsbeschränkungen)
8486
3050
Apparate zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD` durch Kathodenzerstäubung `sputtering`, zum Herstellen von Flachbildschirmen (Handelsbeschränkungen)
8486
3090
Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Flachbildschirmen (ausg. Apparate zum Beschichten von oder für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `CVD-Verfahren` sowie zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen durch Kathodenzerstäubung `sputtering`) (Handelsbeschränkungen)
8486
4000
Maschinen, Apparate und Geräte in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannt (Handelsbeschränkungen)
8486
9010
Werkzeughalter und selbstöffnende Gewindeschneidköpfe sowie Werkstückhalter von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren `boules`, Halbleiterscheiben `wafers` oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art (Handelsbeschränkungen)
8486
9020
Teile von Schleudern zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD` mit fotografischen Emulsionen, a.n.g. (Handelsbeschränkungen)
8486
9030
Teile für Maschinen für die Reinigung der Anschlussstifte von Halbleitergehäusen vor dem Galvanisieren `deflash machines`, a.n.g. (Handelsbeschränkungen)
8486
9040
Teile von Apparaten zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD` durch Kathodenzerstäubung `sputtering`, a.n.g. (Handelsbeschränkungen)
8486
9050
Teile und Zubehör von Apparaten für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD`, a.n.g. (Handelsbeschränkungen)
8486
9060
Teile und Zubehör für Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen `LCD` durch chemische Gasphasenabscheidung `CVD-Verfahren`, a.n.g. (Handelsbeschränkungen)
8486
9070
Teile und Zubehör für Ultraschallwerkzeugmaschinen, a.n.g. (Handelsbeschränkungen)
8486
9090
Teile und Zubehör für Maschinen, Apparate und Geräte von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbarren `boules`, Halbleiterscheiben `wafers` oder Halbleiterbauelementen, elektronischen integrierten Schaltungen oder Flachbildschirmen verwendeten Art sowie der in Anmerkung 9 C zu Kapitel 84 genannten Maschinen, Apparate und Geräte, a.n.g. (ausg. Werkzeughalter, selbstöffnende Gewindeschneidköpfe, Werkstückhalter sowie von Schleudern zum Beschichten von Trägermaterialien mit fotografischen Emulsionen, zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien durch Kathodenzerstäubung `sputtering`, für die Trockenätzung von Mustern auf Trägermaterialien, zum Beschichten von Trägermaterialien durch chemische Gasphasenabscheidung `CVD-Verfahren` für Flüssigkristallanzeigen `LCD`, für die Reinigung der Anschlussstifte von Halbleitergehäusen vor dem Galvanisieren `deflash machines` und für Ultraschallwerkzeugmaschinen) (Handelsbeschränkungen)